半导体超声波清洗机
产品特点
1.适用范围:炉前、光刻、氧化前、抛光后、钝化前清洗;
2.可有效清除硅片表面灰尘、杂质、金属离子等污染物;
3.该清洗机为不锈钢、PVDF、PP、PVC等材质构造
4.采用塑包最新技术,完善的防酸防腐措施;
5.独特的硅片干燥前处理技术,保证硅片干燥后不留任何痕迹;
6.成熟的硅片干燥工艺,多种先进技术集于一体;

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全自动硅片清洗机-硅片超声波清洗机-硅片清洗机
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产品说明: 半导体超声波清洗机
产品特点
1.适用范围:炉前、光刻、氧化前、抛光后、钝化前清洗;
2.可有效清除硅片表面灰尘、杂质、金属离子等污染物;
3.该清洗机为不锈钢、PVDF、PP、PVC等材质构造
4.采用塑包最新技术,完善的防酸防腐措施; 5.独特的硅片干燥前处理技术,保证硅片干燥后不留任何痕迹;
6.成熟的硅片干燥工艺,多种先进技术集于一体;
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